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赛时达:光罩基板,芯片制造"隐形冠军",国产光罩基板如何突围?

文章来源:赛时达科技 / 作者:赛时达科技 / 发表时间:2025-04-17

在芯片制造的世界里,有一项关键材料,它虽不直接出现在最终产品中,却决定了每一颗芯片的精度和性能——它就是光罩基板(Mask Blank)。

如果说光刻机是芯片制造的"画笔",那么光罩基板就是那块"隐形画布",承载着最精密的电路图案。

今天,我们就来揭开这块"画布"的神秘面纱,来看看它是如何影响整个半导体产业的。


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一、什么是光罩基板?

光罩基板(Mask Blank)又称为空白掩模,是制造光罩(Photomask)的原材料,通常由高纯度石英玻璃或合成石英制成,表面镀有一层极薄的光刻胶或金属(如铬)。

它的作用类似于照相机的底片,通过光刻技术将设计好的集成电路图案转移到硅片上。

关键特点:

超高平整度:表面粗糙度要求达到纳米级,确保光刻图案的精确性。

极低缺陷率:任何微小瑕疵都可能导致芯片失效,因此生产过程需超净环境。

高透光性(石英基板):确保紫外光高效穿透,提高光刻分辨率。

二、为什么光罩基板如此重要?

1、 芯片制造的"母版"

光罩基板经过光刻和蚀刻后成为光罩,而光罩上的图案会通过光刻机投影到硅片上。如果基板本身存在缺陷,将直接影响芯片的良率和性能。

2、 制程越先进,要求越苛刻

随着芯片制程从7nm向3nm、2nm迈进,光罩基板的精度要求呈指数级上升。例如:

平整度:需控制在几纳米以内(相当于头发丝的十万分之一)。

缺陷控制:单个缺陷可能影响数十亿个晶体管的功能。

3、 被少数巨头垄断的市场

目前,全球高端光罩基板市场主要由日本的豪雅(Hoya)、日本信越化学(Shin-Etsu)等企业主导,技术壁垒极高。

在这个鲜为人知的领域,日本企业长期垄断着全球市场,而中国正在上演一场惊心动魄的突围战。

三、光罩基板的制造难度

在半导体工厂里,光刻机就像一台超级照相机,而光罩基板就是它使用的底片。这张"底片"的制造难度超乎想象:

1、基板材料堪比"光学水晶"

纯度要求:相当于从10吨沙子中只能有1粒杂质

平整度:相当于北京市面积的土地起伏不超过1毫米

热稳定性:温度变化1℃时,变形幅度小于原子直径

2、镀膜工艺精确到原子级

遮光层厚度误差:相当于把A4纸均匀地削薄到十万分之一

多层镀膜:就像用20层不同颜色的保鲜膜叠在一起,每层厚度误差不超过一个原子

随着芯片制程进化,光罩基板已经历三代技术革命:

普通"黑白底片"(铬板):支持0.35微米以上芯片

"智能滤镜"(相移光罩):让90nm芯片成为可能

"超级底片"(OMOG):支撑7nm及以下先进制程

四、日企在光罩基板领域建立的技术壁垒

1、材料技术垄断

高纯度合成石英基板、特种光刻胶等关键材料均由日本企业(如信越、豪雅)掌控。

镀膜设备(如ULVAC的PVD设备)、检测技术(如Lasertec的无图形检测)也依赖日本供应链。

2、产业链深度整合

豪雅甚至拥有自己的光罩厂,能快速优化产品适配客户需求。

从材料、设备到工艺,日本形成了闭环生态,新进入者极难突破。

就像造相机的同时还能自己生产胶卷、镜头甚至显影液。这种模式让他们垄断了:

全球73%的光罩基板市场

100%的EUV(极紫外)光罩基板供应

3、技术代际领先

在EUV光刻所需的EUV光罩基板领域,日本企业已实现量产,而中国仍被禁运。

即使成熟制程(如KrF、ArF光刻),国产基板仍处于追赶阶段。

五、国产光罩基板的突围破局之路

光罩基板这个看似不起眼的材料,实则是芯片制造的"隐形冠军"。就像盖房子需要设计图纸一样,光刻工艺离不开光罩基板这个"芯片蓝图"。

在当前国际形势下,实现光罩基板国产化的重要性,丝毫不亚于造出先进光刻机。

好消息是,国内已经迈出了关键第一步:多家企业成功研发出高纯度合成石英基板。这就像盖楼打好了地基,为后续建设奠定了基础。但与国际巨头相比,我们还在"小学生"阶段:

1、技术代差明显:国际大厂已发展到PSM、OMOG等先进技术,而国产仍以传统铬板为主。虽然KrF PSM有望年内送样验证,但更高端的ArF PSM和OMOG仍待突破。

2、产业链协同不足:日本豪雅等企业不仅自建光罩厂,还与设备商深度合作,形成产业闭环。国产厂商需要加强与光罩厂、设备商的"产学研"联动。

3、令人振奋的是,近期国内取得了一系列突破:

无图形基板缺陷检测技术打破国外垄断

上海企业成功研发EUV光化检测设备

高校与企业合作攻克Mo/Si复合镀膜技术

4、这些进展就像拼图游戏,正在一块块填补国产化的空白。但要实现全面突围,还需要:

材料自主化

加速高纯度石英、特种光刻胶等基础材料研发,避免"巧妇难为无米之炊"。

产业链协同

光罩基板厂需与光刻机厂商、芯片制造厂深度合作,针对性优化产品。

技术迭代:从跟随到创新

短期内聚焦成熟制程(如KrF PSM),逐步替代进口。

长期布局EUV基板,利用同步辐射光源等新技术实现弯道超车。

光罩基板是芯片制造的命脉之一。正如一位行业专家所言:"没有光罩基板的自主,芯片国产化就是空中楼阁。"这条路注定艰难,但每一步突破,都在为国产芯片的未来铺路。

这场技术攻坚不仅需要千亿级资金投入,更需培育"十年磨一剑"的产业耐心,中国半导体人正在书写属于自己的"光罩长征"。

相信在不久的将来,我们一定能用上完全自主的先进光罩基板,让"中国芯"拥有真正的"中国造"蓝图!

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